金薄膜/希硫酸水溶液界面の中性子反射率解析

抄録

希硫酸と金薄膜界面の電気二重層の深さ方向の構造を調べるため、開路状態での中性子反射率を測定した。希硫酸中で測定した反射率プロファイルでは、0.5<qz<1.5nm^-1の領域で大気中より強度が高くなっている。これが金薄膜上への溶液成分の吸着の影響と考えられる。