10～1000 nmの6種類の膜厚をもったNiOを試料として，Ni L-XAFSの蛍光収量スペクトルをシリコンドリフト検出器（SDD）で測定し，自己吸収効果について考察した．測定モードはNi Lα発光強度を測定する部分蛍光収量（PFY）法と，O Kα発光強度の逆数を測定する逆PFY（IPFY）法の2種類を用いた．PFYモードでは，膜厚の増加とともに，顕著な自己吸収効果が観測された．PFYモードの自己吸収のないスペクトルは，PFYスペクトルを各エネルギーで求めた分析深さで除すると得られ，IPFYモードの分析深さは，その逆数がIPFYスペクトルに一致することを見出した．これらPFYモードとIPFYモードの分析深さが類似していることから，実用的な自己吸収のないスペクトルを求める方法として，PFY強度をIPFY強度で除する方法を提案した．
