原子間力顕微鏡(AFM)で解析したArFエキシマーレーザー用レジストパターンの付着'性の熱処理温度依存'性

抄録

原子間力顕微鏡(AFM)の微細探針を用いることで，基板上に付着している微細有機パターンの付着性を定量解析することができる。ArFエキシマレーザーを用いて作製した直径177nmの円筒形レジストパターンに対し,100～200℃の範囲で熱処理を行った。その結果，熱処理温度の増加と共に，レジストパターンの剥離強度も増加することを確認した。特に,150C以上において付着性が大きく改善した。この手法は，微細構造体の接着設計において有効な手段となる。