日本接着学会誌
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総合論文
粘着材料としてのグラフト化ポリシルセスキオキサンの合成
樫尾 幹広杉崎 俊夫守谷 治
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2008 年 44 巻 3 号 p. 82-91

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抄録
2-(4-クロロメチルフェニル)エチルトリメトキシランとフェニルトリメトキシシランとの酸性条件下での共縮合反応或いは(4-クロロメチルフェニル)トリメトキシシランの塩基触媒存在下での縮合反応により対応するポリシルセスキオキサン(PSQ)誘導体を合成し,これをマクロ開始剤として用い,ATRP法によりアクリレートモノマーのグラフト重合について検討した。その結果,臭化第一銅と(-)-スパルテインを配位子として組み合わせた触媒系で重合を行うと効率的なグラフト重合が可能であり,ゲル体の生成も認められなかった。さらに,この重合法をブチル或いはドデシルアクリレートとメチルメタクリレートとのブロック共重合化に適用し,各ポリマー部のシークエンスの異なるグラフト鎖を有するPSQ誘導体を合成した。そして,グラフト化PSQについて,熱安定性を検証すると共に,粘着材料としての適用性を粘着力,保持力等の測定により評価した。
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© 2008 一般社団法人 日本接着学会
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