(5) XPS，TOF-SIMSによる表面・界面イメージング

抄録

X線光電子分光法（ XPS），飛行時間型二次イオン質量分析法（ TOF-SIMS） に代表される表面分析法は，原子･分子レベル（ 固体表面数nm） の化学組成や化学状態を分析する手法として広く利用されている。これらの表面分析法は，表面の高空間分解能イメージングに加えて，イオンエッチングを併用することで，埋もれた界面のイメージングが可能である。分析装置の高感度化やガスクラスターイオン（ GCIB） を用いた有機物のソフトなエッチングによって，TOF-SIMS では3 次元イメージングも可能となるなど，多様な産業分野において，表面分析の利用が広がっている。本稿では，XPS およびTOF-SIMS の測定原理とイメージング応用例を解説する。