日本原子力学会 年会・大会予稿集
2003年秋の大会
セッションID: B04
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イオン照射,分析
イオンビームグラフト重合法を用いたポリエチレンフィルム中のラジカル密度分布に関する研究
*谷池 晃大谷 勇介古山 雄一北村 晃
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抄録
イオンビームをポリエチレンに照射した時に生成するラジカル密度について検討した.イオンビームグラフト重合を適用することで,残存ラジカル密度を加速器分析を用いて測定した.そして,定量的な考察を行った.
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© 2003 一般社団法人 日本原子力学会
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