日本原子力学会 年会・大会予稿集
2004年秋の大会
セッションID: H52
会議情報
PUREX(分析)
マイクロチップを用いたPUREX再処理工程溶液用分析装置の開発(1)
‐再処理工程内における主要な分析対象と分析手法の検討‐
*菅井 弘池田 秀松渡慶次 学水口 浩司佛坂 裕泰原田 雅幸池田 泰久森田 泰治松本 史朗北森 武彦
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抄録
再処理工場では,その操業に伴って各種試料の分析が不可欠であり,これらの分析操作に伴い低レベル廃液が発生する.これまでに様々な観点から分析廃液発生量を低減化するための処理技術の開発が行われているが,既存の技術では分析廃液の大幅な削減は現状困難である.マイクロチャネルのような微小空間中での溶媒抽出では,分子の拡散距離が短く,有機相と水相の比界面積が大きいことから,高効率・短時間での抽出や分析廃液の大幅な低減化が期待できる.本研究では,PUREX法再処理工程における溶液中のU,Pu等の分析への適用を目的としたマイクロチップとDT-TLMを組み合わせた,高感度・高速分析装置を開発するために必要な分析対象・項目を抽出・整理するとともに,本分析装置の適用可能性および本分析装置を再処理工程中の溶液分析に適用した際の波及効果について検討・評価した.
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© 2004 一般社団法人 日本原子力学会
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