抄録
これまでに、石英ガラス中に生成した照射欠陥のESR測定を行うことによって、照射欠陥の生成メカニズムを検討した。その結果、E'、POR、NBOHCなどの従来から良く知られている照射欠陥に加えて、格子間のO2-イオンに起因すると見られる新たな信号を観測した。今回は比較のため、イオンビームを照射したホウケイ酸ガラス中に生成する照射欠陥をESR法で測定した。その結果、観測されたスペクトルの構成成分は主として、E'、BOHC、OHCであった。これら各照射欠陥のフルエンス依存性やアニーリング挙動を測定することにより、ホウケイ酸ガラス中の照射欠陥の生成および反応メカニズムを検討した。
