抄録
高出力Extreme Ultraviolet (EUV)光源の開発コストを削減するため、高感度EUVレジストの開発が強く望まれている。酸触媒反応を利用した高感度化学増幅型レジストが大量生産ラインで使われているが、32 nm以下の加工を行うためには触媒反応の連鎖長を数nm以内に抑える必要がある。このような状況で、EUV露光により発生する酸の初期濃度は、高精度のパターン形成において極めて重大な問題となる。本研究では、酸感応色素を利用し、EUV光子一個がつくる酸分子の個数を定量した。測定された酸発生効率は、電子線レジストと同じイオン化モデルでうまく説明できることが判明した。
