Gd系厚膜シンチレータの開発(5)

中性子イメージングの試み

抄録

中性子散乱実験への応用を目指し新規Gd系シンチレータ、GPS(Gd2Si2O7:Ce)の開発を行っている。今回は厚さ50～120μm程度の厚膜試料を作製し、JAEA・JRR-3M, 東大物性研・ULSにおいて冷中性子に対する応答測定と初歩的なイメージング実験を行った結果について報告する。