七フッ化ヨウ素ガスを用いた系統除染に関する基礎的研究 (2) ウラン化合物付着メカニズム解明のための分子間ポテンシャル評価

横山 薫; 秦 はるひ; 杉杖 典岳; 百武 徹; 武藤 明徳; 笹倉 万里子; 箕輪 弘嗣; 鈴木 和彦

doi:10.11561/aesj.2011s.0.688.0

2011年春の年会

セッションID: C43

DOI https://doi.org/10.11561/aesj.2011s.0.688.0

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除染技術

七フッ化ヨウ素ガスを用いた系統除染に関する基礎的研究

(2) ウラン化合物付着メカニズム解明のための分子間ポテンシャル評価

横山薫, *秦はるひ, 杉杖典岳, 百武徹, 武藤明徳, 笹倉万里子, 箕輪弘嗣, 鈴木和彦

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キーワード: 七フッ化ヨウ素, 系統除染, ウラン濃縮プラント

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抄録

七フッ化ヨウ素を用いた系統除染のメカニズムを分子レベルで解明するための最初のステップとして，六フッ化ウランと金属(鉄)との物理吸着及び化学反応の可能性，六フッ化ウランと四フッ化ウラン(固体)との物理吸着及び化学反応の可能性について検討を行うため，六フッ化ウランの分子間，六フッ化ウランと鉄，六フッ化ウランと四フッ化ウラン(固体)間の分子間ポテンシャルを分子軌道法により評価し，このデータを基に，MD法により六フッ化ウランの付着メカニズムについて推定した結果を報告する．

責任著者(Corresponding author)

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