高速荷電粒子照射による酸化物セラミックスの欠陥回復のルミネッセンス測定

抄録

核融合炉増殖材には酸化物セラミックスが想定されているが、候補材料において高速荷電粒子による照射効果の研究は少ない。高速荷電粒子では入射エネルギーの大半が電子的相互作用によって失われ、電子励起エネルギーの一部が欠陥形成に用いられることがある。本研究では、keV及びMeVエネルギーによる欠陥形成の違いを明らかにするため、イオン照射した試料に対して室温から800℃までの範囲で等時焼鈍を行い、フォトルミネッセンスを用いて欠陥の回復を調べた。