総合論文
高酸化数金属錯体を用いる陰イオン選択電極
2006 年 55 巻 2 号 p. 83-94
詳細
2006 年 55 巻 2 号 p. 83-94
ルイスの酸塩基反応を利用する陰イオン選択電極の中で特に高酸化数の金属イオンを含むものについて，著者のグループの研究を中心に解説した．単純なジアルキルスズ（IV）化合物がリン酸イオンやα-ヒドロキシカルボン酸に対して高い選択性を示すのは，コンディショニング中にこれらのイオンを含む多核の錯体が生成し，その錯体中では陰イオンが二つのSn(IV) と相互作用するとともにアルキル基によって溶媒から効果的に遮蔽されるためであることを明らかにした．これにより自己集合的な反応がイオン選択電極でも高い選択性を誘発する可能性を初めて示した．ジルコニウム（IV）-ポルフィリン錯体のうち，陽イオン性二量体は通常の陰イオンに対してイオン交換による応答を示すのに対して，中性単量体は配位子交換反応による応答を示した．中性単量体のカルボン酸応答は，補助配位子としての塩化物イオンが徐々に水酸化物イオンに置換されることにより弱まるが，塩酸との接触で可逆的に回復する．水酸化物に置換されたキャリヤーはクエン酸に対して高い選択性を示した．
