本研究は、低相対圧から測定した低圧水蒸気吸着等温線およびClausius-Clapeyron式により算出した等量微分吸着熱を用いて、Ca/Si比1.0および2.0の低結晶質C-S-Hに関して層間構造の評価を試みた。その結果、低圧領域における吸着の立ち上がり量は、（002）面の高い規則性が見られる1.1nmトバモライトで顕著であり、結晶性（c軸方向の規則性）の低下に伴い減少することが確認された。また、等量微分吸着熱の増加率および最大吸着熱値は、C-S-Hの層間構造における吸着サイトの減少、すなわちシリカ重合度の低下に伴って減少することが示唆された。
