実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(2)

抄録

前報に引き続き、化学気相堆積法（CVD）の反応機構解析に利用することを目的とした新規なアルゴリズムに基づくシミュレーターの開発を行った。シミュレーターは実数値遺伝的アルゴリズム(RCGA)によって支配方程式を解き、CVD装置内の成膜速度分布を見積もることができる。シミュレーターが適用可能な反応装置の種類を増やすと共に、報告されている幾つかのRCGAの手法を実装して、計算結果の比較検討を行った。