酸化物表面へのAs(III/V)吸着と表面speciationの予測モデル

抄録

分光学的手法および理論分子計算から認められる表面錯体構造を考慮した表面錯体形成モデリング(ETLM: Sverjensky and Fukushi 2006, EST. 40, 263)により、pH、イオン強度、表面被覆率および鉱物種の変化に伴う酸化物へのAs(III/V)の吸着挙動および表面speciationの予測を試みたので報告する。