無声放電による炭化水素の低温, 緩酸化反応機構について（第3報）静止法によるシクロヘキサン酸化の速度論的解析（その2）器壁, S/Vol比, 圧力, 電圧, 電流, シクロヘキサン及び酸素濃度の影響

電氣化學

Online ISSN : 2434-2548
Print ISSN : 0366-9440

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無声放電による炭化水素の低温, 緩酸化反応機構について（第3報）静止法によるシクロヘキサン酸化の速度論的解析（その2）器壁, S/Vol比, 圧力, 電圧, 電流, シクロヘキサン及び酸素濃度の影響

井上英一

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ジャーナルフリー

1955 年 23 巻 2 号 p. 76-81

DOI https://doi.org/10.5796/denka.23.76

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