エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集
第19回エレクトロニクス実装学術講演大会
セッションID: 17A-16
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水素ラジカルを用いたフラックスフレスリフロープロセスの開発 -1-
*萩原 泰三加々見 丈二竹内 達也平河 大佑末永 誠吉田 慎吾中森 孝大野 恭秀
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抄録
プラズマリフロー装置は、水素ガスをプラズマ化し、プラズマによって生成する水素ラカルのみを利用し、はんだの酸化膜を還元する。そのため、処理物に電気的また物理的ダメージを与えることなくフラックスレスはんだづけが可能である。プラズマリフロー装置で直径400 mmのSn-3.5Ag-0.5CuおよびSn-37PbはんだボールとCu/Ni/Auめっきを施した直径300 μmのパッドのFR-4基板を用い、水素ラジカルを用いたフラックスレスリフローを行い、フラックスリフローの結果と比較した。その結果、フラックスを用いなくても、フラックスを用いた場合と同等の剪断強度を得、プラズマリフロー装置によるフラックスレスリフローが実用可能であることが実証できた。
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© 2005 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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