エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集
第22回エレクトロニクス実装学会講演大会
セッションID: 18C-20
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プラズマ処理によるポリイミドエッチングプロセスに関する研究
*倉橋 孝宏
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キーワード: ポリイミド
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抄録
本研究においてはプラズマプロセスを用いたポリイミドエッチングについて調査を行った。用いたプラズマプロセスはプロセスガスとして酸素を使用した表面波プラズマ(SWP:Surface Wave Plasma)とRF-RIE(RF-Reactive Ion Ecting)プロセスの2種である。2種のプロセスを比較した結果、エッチングレート、表面粗化に関して評価を行ったところ異なった結果を得ることができた。
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© 2008 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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