NEXAFSによるラビング処理したPMDA-ODA基板上の５CB薄膜の分子配向の研究

抄録

　基板のラビング処理による液晶分子配向を吸収端近傍X線吸収微細構造（NEXAFS）により測定・解析した。ラビング処理したPMDA-ODA基板上に5CBを塗布し、真空中での蒸発を防ぐために冷却した厚膜試料、および、真空中で室温に保ち、余分な液晶分子を蒸発させ薄くした薄膜試料について測定した．今回の結果からPMDA-ODA基板との界面では５CB分子の分子軸がラビング方向に平行に並び、軸に対してランダムに回転すると考えられる。