電子ビーム露光法によるナノサイズ超微細パターンによるネマチック液晶配向特性

抄録

電子ビーム露光法により作製したナノメートルサイズの超微細な溝、傾斜、突起形状を用いた液晶配向について検討を行った。超微細なパターン形成後、液晶の濡れ性改善のためSiO_2をオーバーコートし液晶セルを作製した。極微細パターンによる水平配向セルにおいて10^-4 J / m^2オーダーの方位角アンカリングエネルギーを得た。また、傾斜、突起形状によるチルト、垂直配向を確認した。