界面マイクロパターンを用いたHOMO-90°TN双安定に関する研究

抄録

画像のメモリー効果や低消費電力化が期待できる双安定液晶素子が注目されてい る。そこで配向処理方法として以前から用いられているラビング法と光配向法を用い、配向膜表面に互いに直交する配向容易軸を形成する界面マイクロパターンによる双安定性を検討する。本研究では、界面マイクロパターンを用いた、ホモジニアス・90°TN双安定モデルを作製しスイッチングを試みた。