電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌)
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シンクロトロン光励起プロセスの半導体応用と展望
田中 徹郭 其新西尾 光弘小川 博司本岡 輝昭
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2007 年 127 巻 2 号 p. 126-132

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抄録

Synchrotron light-excited process is one of the promising techniques for future semiconductor processes. In this report, we introduce several examples of the application of the synchrotron light-excited process on the semiconductor development, and focus especially on the growth and etching of II-VI compound semiconductor. In addition, the outline of a beamline for the development of advanced materials and processing at Saga Light Source is reported as a future perspective of the synchrotron light-excited process.

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© 電気学会 2007
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