電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌)
Online ISSN : 1347-5525
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ISSN-L : 1341-8939
解説
ゾル-ゲル-水熱処理法による機能性酸化物薄膜の低温作製
-高集積センサ·アクチュエータ,メモリ用Si ULSIモノリシックプロセスへの展開-
野田 実奥山 雅則
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2004 年 124 巻 6 号 p. 203-206

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抄録

A very low-temperature process for preparation of functional oxide thin films is newly proposed and examined by sol-gel-hydrothermal combined treatment. A series of oxide ferroelectric thin films have been prepared by the method in various mineralizer, alkaline solutions. Especially PZT film grown in KOH+Pb(OH)2 solution at final post-baking temperature as low as 400°C, showed a well-saturated, good P-E hysteresis loop with Pr=26.3μC/cm2 and Ec=40.1 kV/cm, respectively.

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© 電気学会 2004
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