研究開発レター
気相エッチングを用いた空隙形成における透過膜の構造に関する検討
2021 年 141 巻 10 号 p. 364-365
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2021 年 141 巻 10 号 p. 364-365
Vapor etching is an important process for a vacuum encapsulation of nano-electromechanical systems. We study a contribution of semipermeable membrane thickness to vacuum cavity fabrication. We reveal that the sufficient thickness ensures fabrication robustness of the vacuum cavity since it prevents compressive stress from destroying the membrane.
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