抄録
ガラス基板上に有機顔料粒子を堆積する新規コーティング法あるいは画像形成法を提案する．この手法は，均一系光触媒反応を利用するものであり，堆積浴としては，顔料（フタロシアニン），顔料を分散するための界面活性剤，光触媒（Ru(bpy)3Cl3, bpy＝ビピリジン）そして電子受容性犠牲試薬（[Co(NH3)5Cl]Cl2 ）を分散あるいは溶解した水性媒体を用いる．フォトマスクとガラス基板を通して光照射（450nm）を行ったところ，フタロシアニンと水酸化コバルトから成るハイブリッド膜（パターン）が得られた．膜形成に及ぼす露光時間，露光強度，及び界面活性剤タイプの影響を検討し，膜堆積機構に関するモデルを提案した．また，得られたハイブリッド膜の暗時及び光照射下での，表面型セルを用いた電気伝導度の測定から，ハイブリッド膜は光電感度を有することがわかった．
