ホログラフィック光学素子を用いたレーザ加工光学系

抄録

現在マスク転写加工によって行われているエキシマレーザ加工を高効率化するため, ホログラフィック光学素子を用いた多重結像転写光学系による加工法を開発した。ホログラフィック光学素子は, 3段階の最適化ステージからなる最適化法によりパターンを最適化し, 合成石英基板を直接エッチングする方法で製作した。このホログラフィック光学素子を用いて多重結像転写光学系による加工実験を行い, 100μmφの穴95個を, 通常のマスク転写加工の20倍の効率で加工することができた。