抄録
液晶セルの内部電場について、ステップ電圧を印加した後の定常状態における電場分布を、Poissonの方程式を満足する条件で数値計算することによりシミュレーションした。その結果、電場分布の不均一性は空間電荷分極の寄与を考慮した場合に、考慮しない場合と比べて遥かに小さくなることが解った。空間電荷分極を複素誘電率の周波数特性から解析する際に、周波数が低下するほどイオンの分布が顕著となり、内部電場の均一性の低下が解析結果に影響を及ぼすことが懸念されるが、低周波の極限である直流電場下での検討結果からは、電場の不均一性は極低周波領域での解析を含めて局所電場を外部電場に近似できる程度に小さいと考えられる。
