水系薄膜技術による光学薄膜の形成 : ウェットプロセスによる低環境負荷ナノコーティング(ディスプレイ材料・製造技術シンポジウム)

抄録

真空プロセスを用いずに水系でしかも常温、常圧で製膜できるウェットプロセスとして交互吸着法、スプレー交互吸着法があり、近年研究が活発化している。なかでも、ディスプレイ、光学部材に適応される光学薄膜は、高真空を有するドライプロセスから、より簡易的なウェットプロセスによる光学薄膜が期待される。本研究では、交互吸着法により全水系プロセスで膜厚および屈折率をナノスケールオーダーで制御した光学薄膜を報告する。