水素リング状ホロー放電による高周波プラズマの高密度化

抄録

現在，太陽電池の薄膜形成にはプラズマにより処理を行う技術が用いられている。プラズマを発生させる方法として，平行平板電極に高周波電圧を印加してプラズマを生成する容量結合型プラズマがある。その構造が簡単で，大面積の処理が可能であるために現在でも広く用いられている。しかし，プラズマ密度が他の方式に比べ低いので，生産性に課題がある。この課題を解決するために，これまで我々は，アルゴンガスにおいて，ホロー陰極効果を用いて電極にリング状の溝を掘ることで，高密度のプラズマが生成できることを示した。本研究では，実際のプラズマプロセシングによく用いられる水素ガスを用いてリング状ホロー電極の有用性を検討した。