ダブルパルスめっき法を用いた交換結合型Fe-Ni軟磁性多層膜の創製

抄録

Fe-Ni合金は，優れた軟磁気特性を有する磁性体として広く知られている。我々の研究室では，常温・常圧下での成膜ならびに高速成膜が可能な電解めっき法を用いたFe-Ni膜に関して検討を行い，これまでに，Fe22Ni78付近の膜で約10 A/mの低保磁力を実現した。本稿では，低保磁力を保ったまま，飽和磁化（Fe組成）を増加させることを目的に，ダブルパルスめっき法を利用した交換結合型軟磁性膜創製に関する基礎検討を行ったのでその結果を報告する。