パルスめっき条件がFe-Niめっき膜に及ぼす影響

抄録

センサ用途では低背化を実現すべく，ある程度の厚みを有する膜状軟磁性体が有利となり，めっき法を用いた軟磁性膜作製は工業的に有利な成膜手法の一つである。本研究室ではこれまでに，Fe-Ni系めっき膜に関して多くの報告を行ってきた。その中で，アンモニウム塩浴から作製したFe-Ni膜が特に優れた軟磁気特性を示すことを最近明らかにした。本稿では，アンモニウム塩浴から作製したFe-Ni膜の課題であった組成や膜厚分布の改善を目的にパルスめっき法を適用し，その基礎特性を評価した。