磁性薄膜を基板に成膜する際，基板と薄膜の界面部の磁気特性に基板材料が影響を及ぼし，その影響を及ぼす箇所の体積は基板材料によって異なるものと考えられる。本研究では，薄膜の簡便な作製法である真空アーク蒸着を使用し，強磁性材料としてその高い飽和磁気分極より硬・軟磁性材料に利用されているFe元素を取り上げ，高融点材料のTa，Ti，Mo基板上に成膜したFe薄膜の磁気特性や結晶構造を比較検討した。その結果，TiやMo基板に比べTa基板を用いた際、基板との界面部において酸化物等の非磁性材料になる体積が小さい事が見出された。この結果は，Ta基板のゲッター効果が一つの原因として影響しているものと考えられる。
