ダイヤモンドライクカーボン（DLC）は耐摩耗性や生体適合性など優れた特徴を持ち、様々な分野で応用されているが、従来の成膜方法ではまだ十分な高速成膜とは言えず、コスト削減のために更なる高速成膜が求められている。我々は、プラズマCVDにおいてCH4とArの混合ガスを不足膨張噴流という形で噴射し、通常のガス流量で従来のDLC成膜速度を大幅に超える高速成膜を実現している。しかし、膜厚分布の一様性に問題を残しており、本研究では特にガス流れに注目して、基板間距離やガスの流量、混合比、供給位置を変化させて成膜し、膜評価を行った。その結果、一様性はガス流れに大きく影響されることがわかった。
