高抵抗磁性膜の作製を鑑みたガラス粒子の創製

抄録

SiCやGaNに代表される半導体材料の駆動周波数の増加に伴い, より高周波で使用可能な軟磁性材料の開発が急務となっている。我々は，PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い，高抵抗のガラス粒子とFe-Co（もしくはFe）を複合した磁性膜の将来的な開発を念頭においている。本報告では，PLD法を用いたガラス粒子の作製技術を主に報告するとともに，Fe-CoとSi-Oより構成される数μm厚の磁性薄膜の作製も検討したので報告する。