PLD法を用いて作製したNd-Fe-B系異方性磁石膜に成膜時間が与える影響

抄録

電子デバイスの小型化，高性能化に伴い，それに内蔵される磁石も小型化，高性能化が求められている。磁石の小型化の一つに，磁石膜の利用があり，スパッタリング法を中心に盛んに研究されているものの，磁石膜の厚さが20 μm程度に留まっており，更なる厚膜化が課題であった。我々は，スパッタリング法に比べて高い成膜速度を有するPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用いることで，厚膜化に貢献できると考え，昨年，基板加熱を用いた異方性Nd-Fe-B系磁石膜の作製を報告した。本研究では，更なる磁気特性向上を目指し，成膜時間の変化が磁石膜の磁気特性や結晶構造に与える影響を検討したので報告する。