真空アーク蒸着法により作製したNd-Fe-B系磁石膜の磁気特性向上

抄録

電子機器の小型化に伴い，その内部への使用が期待される数10 μm厚以上の磁石膜の作製がスパッタリング法を始め，いくつかの手法により報告されている。これまで我々は真空アーク蒸着法を用い5 mm角程度の等方性Nd-Fe-B厚膜磁石の作製を検討してきたものの，ヒステリシスループの2段化に伴う動作点での磁気分極の減少が見られた。本報告では，真空アーク蒸着法を用いたNd-Fe-B系磁石膜の作製において，使用する基板のサイズ・形状が及ぼす2段化への影響について検討したので報告する。更に，化学量論組成に比べNd-poor，及びNd-richなターゲットを用いた保磁力分布についても併せて報告する。