半導体露光装置用高推力リニア同期モータステージの基礎特性に関する研究

抄録

現在、世界的に半導体の需要が増大しており、半導体製造装置のスループット向上が求められている。半導体製造装置の一種であるスキャナー方式の半導体露光装置はスリット光とステージ上のレチクル、ウェハーの位置が相対的に移動することにより走査上に露光が実行され、ウェハー上に回路が焼き付けられる。そのため、ステージの動作速度がスループットに関与している。そこで本研究では高速駆動が可能な半導体露光装置用ステージの開発を目指し、永久磁石リニア同期モーターステージの設計およびエアギャップ、電流密度の変化に対する基礎特性の解析を行った。