抄録
キャップドレーン(CPVD)と真空圧を併用して軟弱地盤を改良する方法を説明した。この方法は表層土をシール層として利用するため、通常の真空圧密のように地表面にシートを敷く必要がない。また地表に厚い高透水・透気性層が存在する場合でもキャップを深く挿入することで対応できるという利点がある。さらに、真空圧と盛土荷重と組み合わせた場合、シートが敗れる恐れがないので、通常の方法より有利である。本報告では、CPVDと真空圧と併用して軟弱な埋立地を改良した事例を解析検討し、この方法の有効性を示した。この現場は真空圧密を開始した時点で自重圧密はまだ終了していなかったが、このような地盤においては真空圧による地盤の変形状態は平面ひずみ条件での等方変形に近くなることを示した。
