2006 年 55 巻 6 号 p. 224-231
超薄 (5.4nm以下), 規則正しい配列の (自己組織化), 架橋した (一次元および二次元重合体) 保護皮膜を, アルキルトリエトキシシランによるカルボン酸イオン自己組織化膜の化学修飾によって, 不動態化したFe電極上に作製した. これらの皮膜で覆った不動態化電極についての不動態皮膜破壊の防止を, 0.1MCl-を含むホウ酸塩緩衝溶液中におけるアノード分極測定から検討した. 不動態および過不動態領域にわたって, 破壊に対する不動態皮膜の完全な保護が認められた.