スギ精英樹２０クローンを対象として、各クローンの樹高・根元直径の成長速度と枯死率を処理の異なる２つの区（下刈り区・無下刈り区）で比較した。枯死率はクローン間差、処理区間差に有意差は見られなかった。樹高・根元直径成長にはクローン間差、処理区間差が見られた。下刈り区と無下刈り区で樹高の順位付けをしたところ、上位３クローンと下位２クローンは変化がなかったが、他には変動が見られた。従って他の植生との競争が激しい無下刈り区では、クローンによって下刈り区とは異なる成長をするといえる。また無下刈り区で樹高成長が不良の下位４クローンは枯死率が比較的高く、人工被陰試験でも同様に成長不良であった。従って無下刈り区で成長不良であるクローンは、弱光下で成長を維持できないことが大きな要因であるといえる。本試験から、無下刈り施業に適する品種としては、初期成長速度が速く、耐陰性が高いことが重要な特性であるといえる。
