日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
Print ISSN : 0385-6275
ISSN-L : 0385-6275
01aA10 GaH-VPE法による窒化ガリウム単結晶成長(半導体バルク(3),第36回結晶成長国内会議)
今出 完北野 芳裕山田 憲秀川原 実川村 史朗吉村 政志北岡 康夫森 勇介佐々木 孝友
著者情報
ジャーナル フリー

2006 年 33 巻 4 号 p. 186-

詳細
抄録

The growth of GaN crystals was conducted by GaH-VPE method. In this method, GaHx was used as Ga source, which enables us to grow GaN crystals with high crystallinity. However, the growth rate was lower than 20um/h because of low GaHx supply. In this work, the structure for the synthesis of GaHx was optimized to increase the reaction efficiency between Ga and H_2 gas.

著者関連情報
© 2006 日本結晶成長学会
前の記事 次の記事
feedback
Top