精密工学会誌
Online ISSN : 1882-675X
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生成ダイヤモンド膜に及ぼすアーク放電プラズマジェットCVD装置の電極位置の影響
平田 敦, 内田 孝宏, 吉川 昌範
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1994 年 60 巻 4 号 p. 591-595

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抄録

陰極1つに対し,陽極を3つ有するアーク放電プラズマジェヅトCVD装置で電極位置を変化させてダイヤモンド合成を行い,ダイヤモンド合成に与える電極位置の影響について検討し,プラズマジェット径方向の放電距離の増加とともに,合成速度,合成面積および膜厚が増加することがわかった.しかし,中央部で厚く周辺部で薄いという膜形状にはほとんど変化を与えないことがわかった.

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