水素ラジカル処理によるSi/SiO<sub>2</sub>多層膜の欠陥密度の変化

「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム（日本太陽光発電学会学術講演会）予稿集

Online ISSN : 2436-6498

第20回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム（第3回日本太陽光発電学会学術講演会）（2023年）

セッションID: PD-11

DOI https://doi.org/10.57295/jpvsproc.3.0_101

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主催: 日本太陽光発電学会

水素ラジカル処理によるSi/SiO₂多層膜の欠陥密度の変化

山田繁, 松尾直紀, 出戸智大, 藤澤知輝, 伊藤貴司

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