CVDと超臨界流体を利用した酸化物成膜過程の比較

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第57回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 17a-TQ-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2010.1.0_1299

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 57

開催地: 東海大学

開催日: 2010/03/17 - 2010/03/20

CVDと超臨界流体を利用した酸化物成膜過程の比較

*秋山泰伸, 奥村優夢

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キーワード: 17a-TQ-11, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, CVD, SCFD, Step coverage

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