軟Ｘ線照射による非晶質Ge膜の結晶化

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第57回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 18a-D-9

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2010.1.0_2914

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 57

開催地: 東海大学

開催日: 2010/03/17 - 2010/03/20

軟Ｘ線照射による非晶質Ge膜の結晶化

*礒田伸哉, 井上智章, 天野壮, 部家彰, 神田一浩, 松尾直人, 宮本修治, 望月孝晏

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キーワード: 18a-D-9, 半導体A（シリコン）, Siプロセス技術, Ge, 結晶化, 軟X線

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