電解硫酸液による枚葉処理方式でのレジスト剥離の検討

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第58回春季応用物理学関係連合講演会

セッションID: 24p-BA-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.1.0_2918

会議情報

主催: 社団法人応用物理学会

会議名: 春季応用物理学関係連合講演会

回次: 58

開催地: 神奈川工科大学

開催日: 2011/03/24 - 2011/03/27

電解硫酸液による枚葉処理方式でのレジスト剥離の検討

*山川晴義, 内田稔, 永井達夫

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キーワード: 24p-BA-10, 半導体A（シリコン）, 半導体表面, レジスト剥離

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