シリコン表面の水素プラズマ処理における基板温度の効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第72回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 31a-ZJ-8

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.2.0_1251

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 72

開催地: 山形大学

開催日: 2011/08/29 - 2011/09/02

シリコン表面の水素プラズマ処理における基板温度の効果

原幸治郎, 高見佳生, 高木雄也, *篠原正典, 松田良信, 藤山寛

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キーワード: 31a-ZJ-8, プラズマエレクトロニクス, プラズマ診断･計測, シリコン, 水素プラズマ, 赤外分光

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