DCマグネトロンスパッタ法を用いたβ-MoO<sub>3</sub>(011)エピタキシャル薄膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第75回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17a-A10-9

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_1198

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 75

開催地: 北海道大学

開催日: 2014/09/17 - 2014/09/20

DCマグネトロンスパッタ法を用いたβ-MoO₃(011)エピタキシャル薄膜の作製

*清水亮太, 山本邦子, 鈴木竜, 大澤健男, 白木将, 一杉太郎

著者情報

キーワード: 17a-A10-9, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, モリブデン酸化物, マグネトロンスパッタ法, 低温成膜

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2014 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top