AlO<sub>x</sub>/Si 前駆体のポストアニール処理によるAlO<sub>x</sub>/SiO<sub>x</sub> 構造の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第75回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 17p-A11-12

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_1305

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 75

開催地: 北海道大学

開催日: 2014/09/17 - 2014/09/20

AlO_x/Si 前駆体のポストアニール処理によるAlO_x/SiO_x 構造の作製

*三宅省三, 豊嶋祐樹, 堀田育志, 吉田晴彦, 新船幸二, 小椋厚志, 佐藤瑞樹

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キーワード: 17p-A11-12, 薄膜・表面, 薄膜新材料, high-k

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